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發(fā)布時(shí)間:2025-02-12 05:16:54
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湖南盈能電力科技有限公司,專(zhuān)業(yè)儀器儀表及自動(dòng)化控制設(shè)備等。主要產(chǎn)品有:數(shù)字電測(cè)儀表,可編程智能儀表,顯示型智能電量變送器,多功能電力儀表,網(wǎng)絡(luò)電力儀表,微機(jī)電動(dòng)機(jī)保護(hù)裝置,凝露控制器、溫濕度控制器、智能凝露溫濕度控制器、關(guān)狀態(tài)指示儀、關(guān)柜智能操控裝置、電流互感器過(guò)電壓保護(hù)器、斷路器分合閘線(xiàn)圈保護(hù)裝置、DJR鋁合金加熱器、EKT柜內(nèi)空氣調(diào)節(jié)器、GSN/DXN-T/Q高壓帶電顯示、干式(油式)變壓器溫度控制儀、智能除濕裝置等。
本公司全系列產(chǎn)品技術(shù)性能指標(biāo)全部符合或優(yōu)于 標(biāo)準(zhǔn)。公司本著“以人為本、誠(chéng)信立業(yè)”的經(jīng)營(yíng)原則,為客戶(hù)持續(xù)滿(mǎn)意的產(chǎn)品及服務(wù)。
如果將“L”和“E”接反了,流過(guò)絕緣體內(nèi)及表面的漏電流經(jīng)外殼匯集到地,由地經(jīng)“L”流進(jìn)測(cè)量線(xiàn)圈,使“G”失去屏蔽作用而給測(cè)量帶來(lái)很大誤差。另外,因?yàn)椤癊”端內(nèi)部引線(xiàn)同外殼的絕緣程度比“L”端與外殼的絕緣程度要低,當(dāng)兆歐表放在地上使用時(shí),采用正確接線(xiàn)方式時(shí),“E”端對(duì)儀表外殼和外殼對(duì)地的絕緣電阻,相當(dāng)于短路,不會(huì)造成誤差,而當(dāng)“L”與“E”接反時(shí),“E”對(duì)地的絕緣電阻同被測(cè)絕緣電阻并聯(lián),而使測(cè)量結(jié)果偏小,給測(cè)量帶來(lái)較大誤差。
50Ω直接連接的響應(yīng)被用作參考波形。有源探頭響應(yīng)與參考波形幾乎無(wú)法區(qū)分。由于輸入電容較高,無(wú)源探頭響應(yīng)有圓角。注意測(cè)量的上升時(shí)間。參考波形的上升時(shí)間(參數(shù)讀數(shù)P1)為456皮秒(ps),有源探頭(P2)的上升時(shí)間則為492皮秒。無(wú)源探頭的上升時(shí)間(P3)為1.8納秒(ns)。在帶寬相同的情況下,有源探頭的性能通常優(yōu)于無(wú)源探頭。但還必須記住,有源探頭需要電源。由于這個(gè)原因,有源探頭幾乎針對(duì)不同商的示波器均了 連接器。
涂鍍層測(cè)厚儀的測(cè)量方法的測(cè)量方法主要分為以下幾種:磁性測(cè)厚法:適用導(dǎo)磁材料上的非導(dǎo)磁層厚度測(cè)量。導(dǎo)磁材料一般為:鋼\鐵\銀\鎳。此種方法測(cè)量精度高;渦流測(cè)厚法:適用導(dǎo)電金屬上的非導(dǎo)電層厚度測(cè)量。此種方法較磁性測(cè)厚法精度低;超聲波測(cè)厚法:目前國(guó)內(nèi)還沒(méi)有用此種方法測(cè)量涂鍍層厚度的,國(guó)外個(gè)別廠(chǎng)家有這樣的儀器,適用多層涂鍍層厚度的測(cè)量或則是以上兩種方法都無(wú)法測(cè)量的場(chǎng)合。但一般價(jià)格昂貴\測(cè)量精度也不高;電解測(cè)厚法:此方法有別于以上三種,不屬于無(wú)損檢測(cè),需要破壞涂鍍層。
如下圖所示,使用隔離收發(fā)器后,可以有效防止形成地環(huán)路,總線(xiàn)參考地可跟隨共模電壓的波動(dòng)而波動(dòng),共模電壓全部由隔離帶承受,共模電壓對(duì)總線(xiàn)信號(hào)變得不再可見(jiàn),從而保證總線(xiàn)穩(wěn)定可靠地通信。CAN總線(xiàn)上建議使用磁隔離技術(shù)。磁隔離技術(shù)可靠性較高,磁耦消除了與光耦合器相關(guān)的不確定的電流傳送比率、非線(xiàn)性傳送特性以及隨時(shí)間漂移和隨溫度漂移問(wèn)題;磁耦均帶有25KV/us的瞬態(tài)共模能力,且能夠在電壓差峰值560V的環(huán)境下正常工作。
半導(dǎo)體生產(chǎn)流程由晶圓,晶圓測(cè)試,芯片封裝和封裝后測(cè)試組成,晶圓和芯片封裝討論較多,而測(cè)試環(huán)節(jié)的相關(guān)知識(shí)經(jīng)常被邊緣化,下面集中介紹集成電路芯片測(cè)試的相關(guān)內(nèi)容,主要集中在WAT,CP和FT三個(gè)環(huán)節(jié)。集成電路設(shè)計(jì)、、封裝流程示意圖WAT(WaferAcceptanceTest)測(cè)試,也叫PCM(ProcessControlMonitoring),對(duì)Wafer劃片槽(ScribeLine)測(cè)試鍵(TestKey)的測(cè)試,通過(guò)電性參數(shù)來(lái)監(jiān)控各步工藝是否正常和穩(wěn)定,CMOS的電容,電阻,Contact,metalLine等,一般在wafer完成制程前,是Wafer從Fab廠(chǎng)出貨到封測(cè)廠(chǎng)的依據(jù),測(cè)試方法是用ProbeCard扎在TestKey的metalPad上,ProbeCard另一端接在WAT測(cè)試機(jī)臺(tái)上,由WATRecipe自動(dòng)控制測(cè)試位置和內(nèi)容,測(cè)完某條TestKey后,ProbeCard會(huì)自動(dòng)移到下一條TestKey,直到整片Wafer測(cè)試完成。
直流配電系統(tǒng)通常由高頻關(guān)電源和蓄電池組成,用于為直流系統(tǒng)中控制、信號(hào)、繼電保護(hù)及自動(dòng)裝置、事故照明等可靠的直流電源,對(duì)其供電的可靠性、穩(wěn)定性以及供電質(zhì)量均有著很高的要求。因此對(duì)某些服役已久的直流系統(tǒng)進(jìn)行相應(yīng)的改造已顯的十分迫切。且直流系統(tǒng)改造時(shí)不停電,工程改造難度大,采用傳統(tǒng)的閉口霍爾電流傳感器或者分流器也無(wú)法解決,因此可采用口式霍爾電流傳感器來(lái)解決改造項(xiàng)目中直流電流計(jì)量問(wèn)題,確保改造過(guò)程不停電且安全運(yùn)行。品設(shè)計(jì)1.1結(jié)構(gòu)特點(diǎn)口式霍爾電流傳感器在傳統(tǒng)閉口霍爾電流傳感器的基礎(chǔ)上進(jìn)行研發(fā),結(jié)構(gòu)新穎,外形美觀大方。整體由外殼、鐵芯、采樣線(xiàn)路板及固定樹(shù)脂構(gòu)成,外殼材料采用PC/ABS合金,具有耐高溫、機(jī)械強(qiáng)度高、環(huán)保等特點(diǎn);鐵芯采用有取向冷扎硅鋼片,具有性能穩(wěn)定,機(jī)械強(qiáng)度高,導(dǎo)磁率極高等特點(diǎn);線(xiàn)路板與外部接線(xiàn)采用綠色可插拔端子,現(xiàn)場(chǎng)接線(xiàn)方便、可靠。具體結(jié)構(gòu)如所示,產(chǎn)品外觀采用分體式設(shè)計(jì),為圓孔型,適合直流系統(tǒng)一次母線(xiàn)為電纜時(shí)穿過(guò)。
USBType-C了很多特性,其中包括為終端用戶(hù) 靈活性和便利性。系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員必須謹(jǐn)慎選擇的選項(xiàng),這樣,可將總體系統(tǒng)成本控制在合理的范圍內(nèi)。有兩個(gè)選擇會(huì)對(duì)系統(tǒng)的成本和復(fù)雜程度產(chǎn)生的影響,一個(gè)是Type-C的固有功率15W,另一個(gè)是增強(qiáng)供電能力和支持。這篇文章討論了如何實(shí)現(xiàn)一個(gè)USBType-C端口,以及盡可能地減少它對(duì)于現(xiàn)有系統(tǒng)的影響。在電子行業(yè)中,USBType-C存在于每一位系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員的腦海中。